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1700℃两通道混气高真空CVD系统GSL-1700X-4-C2HV
1700℃两通道混气高真空CVD系统GSL-1700X-4-C2HV
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1700℃单温区三通道混气CVD系统GSL-1700X-F3LV
1700℃单温区三通道混气CVD系统GSL-1700X-F3LV
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4路质子混气管式PECVD系统
4路质子混气管式PECVD系统
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带滑动法兰三温区CVD系统OTF-1200X-5-III-F3LV
带滑动法兰三温区CVD系统OTF-1200X-5-III-F3LV
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高真空三温区CVD系统OTF-1200X-4-Ⅲ-C9HV
高真空三温区CVD系统OTF-1200X-4-Ⅲ-C9HV
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高真空快速CVD系统OTF-1200X-4-RTP-C3HV
高真空快速CVD系统OTF-1200X-4-RTP-C3HV
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1200℃双管滑动式四通道混气CVD系统OTF-1200X-4-C4LV
1200℃双管滑动式四通道混气CVD系统OTF-1200X-4-C4LV
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高真空CVD系统OTF-1200X-80-C2HV
高真空CVD系统OTF-1200X-80-C2HV
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开启式单温区低真空CVD系统OTF-1200X-F3LV
开启式单温区低真空CVD系统OTF-1200X-F3LV
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生长纳米线CVD炉OTF-1200X-4-NW
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快速升温CVD系统RTP-1000-F3LV
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微型PECVD系统
微型PECVD系统
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球形脉冲激光淀积系统(PLD)
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单室等离子增强化学气相沉积(PECVD)
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小型粉末PVD包覆系统VTC-16PW
小型粉末PVD包覆系统VTC-16PW
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高真空PECVD系统
高真空PECVD系统
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GSL-450-PLD激光镀膜设备
GSL-450-PLD激光镀膜设备
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GSL-300-PLD激光镀膜设备
GSL-300-PLD激光镀膜设备
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GSL-PECVD-300化学气相沉积
GSL-PECVD-300化学气相沉积
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